Caratterizzazione di matrici di SPAD in tecnologia CMOS da 150 nm per un rivelatore di posizione a due strati

Characterization of 150 nm CMOS SPAD arrays for a dual layer position sensitive detector

TORILLA, GIANMARCO
2018/2019

Abstract

Caratterizzazione di matrici di SPAD in tecnologia CMOS da 150 nm per un rivelatore di posizione a due strati
2018
Characterization of 150 nm CMOS SPAD arrays for a dual layer position sensitive detector
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14239/25439